尼康拟于 2028 财年推出新款浸没式 ArF 光刻机，与 ASML 主导生态

IT之家 2 月 19 日新闻，尼康在其 2025 财年第三财季（停止 2024 年 12 月 31 日）财报的演示文稿中流露，该企业正同配合搭档一道开辟一款兼容 ASML 主导的浸没式 ArF（IT之家注：也称 ArFi）光刻生态的新型光刻机产物，目的 2028 财年（2027 年 4 月~2028 年 3 月）推出。在浸没式 ArF 光刻范畴，ASML 现在凭仗其成熟的 TWINSCAN 双工件台技巧紧紧控制着九成以上的光刻机市场份额。而该市场仅有的另一位参加者尼康目的是将占比晋升到与干式 ArF 范畴相称的更高程度。尼康以为跟着 DRAM 内存跟逻辑半导体向三维开展，浸没式 ArF 光刻的需要也将晋升。为从 ASML 手中夺下更多的 ArFi 订单，尼康打算使其正开辟浸没式 ArF 光刻机与 ASML 的同类装备生态兼容，便利原打算采取 ASML 光刻机的用户迁徙至尼康平台。别的，尼康表现其新一代浸没式 ArF 光刻机将采取新的镜头跟工件台，并具有尺寸紧凑、易于保护的上风。而再下一代产物的开辟估计在 2030 年后启动。